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现象光伏狭缝涂布上位机操作文档

了解如何快速上手 狭缝涂布上位机的操作 .

狭缝涂布上位机操作文档

一、目录

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图1-1

  1. 生产:点击生产后可进入生产主页面,可以查看当前平台轴与刮涂轴的实时位置与实时速度,注射器容量与实时速度,注液曲线图等信息。

  2. 工艺:点击工艺后可进入工艺页面;可以查看工艺步骤,工艺参数,配方保存、导入、导出等功能。

  3. 日志:点击日志后可进入日志页面;可以查看日志详情,日志检索,实时日志,查询日志等功能。

二、生产界面

1.生产控制界面

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图2-1

1.日志:实时反馈当前存在的异常,需排除问题信息后才可进行操作。

2.生产控制:点击进入生产控制界面,可以当前界面上的信息。

3.平台轴位置|实时速度:可以查看当前平台轴的实时位置与实时速度。

4.刮涂轴位置|实时速度:可实时检测到当前刮涂轴的实时位置与实时速度。

5.注液器容量|实时速度:可检测当前注液器的实时容量与实时速度。

6.手动抽液:可进行抽液操作,可以对抽液量进行设置。

7.润刀注液:平台到达润刀位置后,出液量跟点击时间一致,可对润刀速度进行设置。

8.风刀:点击后风刀会进行吹风工作。

9.平台吸附:手动打开真空吸附。

10.蠕动泵:手动打开蠕动泵。

11.风刀加热:开启风刀进行加热

12.注液监控:对液体余量实时监测三维图。

13.复位:按下后可对暂停或超时的工序进行复位。

14.暂停:按下后需手动点击软件后可解除,按下暂停后当前工艺不会停止,需完成当前步骤后才可停止。

15.急停:点击后可立即停止所有的轴。

16.点击后可进行初始化操作,关闭程序或急停之后需要进行初始化操作。

17.工艺启动:点击启动润刀流程,再次点击可进行自动工艺。

18.关机:自动工艺执行结束之后,点击工艺结束将会关闭所有的IO点。

19.一键清洗:点击后开始进行自动清洗的工艺。

2.手动控制界面

2.1 注液轴

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图2-2

注液轴:可对注液轴进行手动点动注液操作。

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图2-3

1.位移传感器:实时显示传感器数值,自动对刀的过程中使用。

2.传感器清零:自动对刀之前将传感器伸出并进行清零操作。

3.激光传感器:可以监测平台水平。

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图2-4

1.切换抽液阀:手动点击可以切换抽取液体的阀门。

2.切换注液阀:手动点击可以切换注入液体的阀门。

3.回收液体:手动点击可以将注样器中的液体进行回收。

4.涂布头校正:手动点击将自动进行对刀操作并计算出涂布头到平台的高度。

5.位移传感器伸缩:手动点击可以对位移传感器进行伸缩操作,需要在通气的情况下。

2.2 校正轴

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图2-5

校正轴:可对校正轴进行手动点击校正操作。

定位参数:可对位置进行定位,定位移动速度。

2.3刮涂轴

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图2-6

刮涂轴:可对刮涂轴进行手动点动操作

定位参数:可对位置进行定位,定位移动速度。

2.4平台轴

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图2-7

平台轴:可对平台轴进行手动点动操作

定位参数:可对位置进行定位,定位移动速度。

3.参数设置

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图2-8

1.平台涂布开始位置(mm):预注液和工艺开始的位置。

2.刀头接触平台的实际位置(mm):表示涂布头接触平台的实际位置。

3. 平台涂布结束位置(mm):表示涂布工艺结束的位置。

4.平台涂布速度(mm/s):指涂布头在涂布过程中的移动速度。

5.预注液量(μl):预注液的量。

6.预注液速度(μl/s):指的是在预注液的速度。

7.预注液延迟时间(s):指的是在涂布预注液完成后等待的时间。

8.涂布头下降速度(mm/s):指涂布头在开始涂布时向下移动的速度。

9.平台轴到达准备位置的移动速度(mm/s):这是指平台轴在移动到预设的准备位置时的速度。

10.基片反抽位置(mm):指在涂布过程中,平台位置到达基片的位置(不能大于基片长度)。

11.反抽速度(μl/s):指在涂布到反抽位置之后,注液轴进行反抽从反抽位置开始到刮涂结束位置停止。

12.风刀开启位置(mm):指在涂布或喷涂过程中,风刀开始工作的位置。

13.风刀关闭位置(mm):指在涂布或喷涂过程中,风刀结束工作的位置。

14.涂布头涂布间隙高度(mm):指涂布头与基片表面之间的垂直距离。

15.基片长度(mm):指在基片的实际长度。

16.涂布轴上升速度(刮完之后)(mm/s):指涂布头在涂布完成后,向上移动的速度。

17.涂布轴上升位置(刮完之后)(mm):指涂布头在涂布完成后,向上移动到的位置。

18.注液速度(μl/s):指的是在涂布过程中,液体从涂布头中释放的速率。

19.注样器数量:指的是在涂布或注液过程中使用的注样器的总数。

20.平台涂布完成运行速度(mm/s):指在涂布过程完成后,平台移动的速度。

21.注样器余量警戒值(μl):指在注样器中液体剩余量达到预设阈值,在工艺启动时系统会发出警报。

22.基片厚度(mm):基片厚度是指所用基片的物理厚度。

23.清洗速度(μl/s):指的是指的是在清洗过程中的抽液速度。

24.单次清洗量(μl):指的是在一次清洗操作中所使用的清洗液的体积。

25.清洗次数:自动清洗时清洗的次数。

26.是否启用风刀(0:关闭;1:打开):在刮涂过程中是否启用风刀。

27.手动抽液量(μl):是指在操作过程中,人工手动控制抽取的液体量。

28.手动抽液速度(μl/s):是指在操作过程中,人工手动控制抽取的液体的速度。

29.校正是平台位置(mm):是指在设备或系统中,通过特定的测量和调整过程,确保平台的涂布机工作位置准确无误。

30.校正时刮涂轴下降位置(mm):这是指刮涂轴在对刀中下降到位置

31.校正时传感器误差:这是指自动校正过程中,两侧的传感器测量的误差值。

三、工艺界面

1.配方管理

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图3-1

1.新建配方:可点此按钮进行配方的一个新的创建。

2.保存配方:在修改完工艺参数后需进行配方保存。

3.配方导入:可点此按钮进行导出文件配方导入。

4.配方导出:可点此按钮进行配方导出生成文件。

3.日志

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图3-2

日志详情:可监测设备实时运行状态

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图3-3

日志检索:可查询之前时间报警的具体内容